网站开发用什么架构江都网站建设
张小明 2025/12/31 23:24:52
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是一种利用 spacer刻蚀图形#xff0c;从而将线距#xff08;pitch#xff09;缩小为原来的 1/2 的技术。一句话总结什么是 SADP 工艺SADPSelf-Aligned Double Patterning自对准双重图形化是一种利用 spacer刻蚀图形从而将线距pitch缩小为原来的 1/2 的技术。一句话总结光刻一次 → 通过一轮 spacer → 得到两倍密度的图形pitch ÷ 2。SADP 是 SAQP四重图形化的基础步骤也是最常用、最成功的多重图形化技术之一。SADP 工艺流程Step 1Core Patterning光刻 刻蚀 core使用光刻做出 core硬掩膜Step 2Spacer Deposition沉积 spacer以 ALD 或 CVD 方式覆盖在 core 的表面材料如 SiN / SiO₂ / SiC要求完全 conformal厚度精准决定最终线宽Step 3Spacer Etch各向异性刻蚀去除顶部、底部只保留侧壁 spacer结果spacer core spacer此时结构 pitch 大约为原来的 1/2。Step 4Core Removal去除 core去掉中间 core留下两条 spacer这些 spacer 就是新的 maskStep 5Pattern Transfer图形转移到底层利用 spacer 作为最精细的掩膜刻蚀到硬掩膜或底层薄膜完成最终 p p₀ / 2 的线条。SADP 与 SAQP 的关系技术目的spacer 次数pitch 缩小倍数SADP一次 pitch 分裂11/2SAQP两次 pitch 分裂21/4也就是说SAQP SADP × 2第二轮 spacer 继续分裂